光掩膜

基本属性

• 拼音字母guang yan mo
• 拼音首字母gym
• 注音符号ㄍㄨㄤ ㄧㄢ ㄇㄛ

扩展释义

在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到晶圆（wafer）制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分，是流程中造价最高的一部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。